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日本樫山工业(KASHIYAMA)干式真空泵MUH3000

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日本樫山工业(KASHIYAMA)干式真空泵MUH3000

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日本樫山工业(KASHIYAMA)干式真空泵MUH3000

更多详情咨询:13024103468 刘经理

纳加霍里科技(上海)有限公司


参数类别数值说明
最大抽气速度500 L/min(50Hz)/ 600 L/min(60Hz)涡旋结构实现稳定抽速,适配中小型精密工艺
极限压力1.0×10⁻² Pa(绝对压力)无油涡旋设计可实现超高真空度,满足半导体核心工艺需求
入口法兰规格NW40适配标准真空管路,便于与精密设备对接
出口法兰规格NW25适配常规排气系统,可连接消音器 / 过滤器
冷却水需求2.0–3.0 L/min(0.1–0.3 MPa)水冷系统保障连续运行时的散热效率,适配长期工况
氮气吹扫流量0–10 SLM(标准升 / 分钟)可调节吹扫流量,抑制工艺过程中介质凝结
电机功率0.75 kW三相异步电机,适配工业 380V/50Hz 供电(可定制 220V)
外形尺寸450mm×350mm×400mm(长 × 宽 × 高)超紧凑设计,适合安装在设备内部或狭小空间
重量约 45 kg轻量化机身,便于搬运与安装
噪音水平≤60 dB(A)涡旋结构运行平稳,噪音远低于同级别真空泵

三、适用场景

MUH3000 凭借超高真空 + 无油洁净 + 低噪音的特性,广泛应用于以下领域:
  1. 半导体制造

    • 核心工艺:晶圆蚀刻、薄膜沉积(CVD/PVD)、离子注入设备的真空系统。

    • 辅助工艺:光刻胶涂覆前的真空干燥、晶圆清洗后的真空脱水。

  2. FPD 与电子制造

    • 平板显示器:OLED 面板的真空蒸镀、LCD 面板的液晶注入前真空处理。

    • 电子元件:微型传感器、MEMS 器件的真空封装,锂电池极片的真空干燥。

  3. 科研与医疗

    • 实验室:超高真空实验平台、扫描电子显微镜(SEM)的真空源。

    • 医疗设备:医用加速器、磁共振成像(MRI)设备的真空系统。

  4. 精密化工

    • 特种材料:纳米材料合成、有机半导体材料的真空提纯。

    • 精细化工:高纯度溶剂的真空蒸馏、反应釜的真空进料。



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